英國馬爾文帕納科-福建精析儀器有限公司

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英國馬爾文帕納科

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Claisse LeDoser馬爾文帕納科熔融制樣前處理設備及耗材

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：Claisse LeDoser

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Claisse LeDoser 馬爾文帕納科熔融制樣前處理設備及耗材提升分析精度 Claisses LeDoser 自動(dòng)天平經(jīng)過(guò)特別設計，能夠高精度地稱(chēng)重和分配硼酸鹽助熔劑。 Claisses LeDoser 不僅僅是一種稱(chēng)重設備：它是一款能夠幫助您獲取穩定的目標結果，并實(shí)現試驗室高效管理的重要儀器。
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Claisse M4馬爾文帕納科熔融制樣前處理設備及耗材

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：Claisse M4

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馬爾文帕納科熔融制樣前處理設備及耗材 Claisse M4 以熔融方式制備樣品的標準設備 Claisse M4 熔融儀器是三熔位自動(dòng)化氣體儀器，可為 XRF 分析制備玻璃熔片，以及為 ICP、AA 分析制備溶液。這款儀器具有通用性，能夠處理多種樣品，例如：水泥、陶瓷、礦渣、玻璃、二氧化硅、碳酸鹽采礦和地質(zhì)樣品硫化物鋁土礦、氟化物聚合物、催化劑純金屬、鐵合金和其他合金
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Claisse Eagon 2熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：Claisse Eagon 2

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Claisse Eagon 2 熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科安全、簡(jiǎn)單、高性能 Claisse Eagon 2 是全自動(dòng)化熔融儀器。它可以同時(shí)處理兩個(gè)樣品，用于為 XRF 分析制備玻璃熔片。該儀器可處理：采礦和地質(zhì)樣品鋁土礦、氧化鋁鉻鐵礦、鈷礦、白云石、鈦鐵礦、金紅石、輝鉬礦稀土元素碳酸鉀、磷酸鹽、肥料水泥、石灰、石灰石、碳酸鹽、粘土催化劑、沸石化妝品、藥物和環(huán)境樣品
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Claisse LeNeo熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：Claisse LeNeo

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Claisse LeNeo 熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科 Claisse LeNeo Claisse LeNeo 熔融儀器可制備用于 XRF 的玻璃熔片，以及用于 AA 和 ICP 分析的硼酸和過(guò)氧化物溶液。 Claisse LeNeo 熔融儀器可制備用于 XRF 的玻璃熔片，以及用于 AA 和 ICP 分析的硼酸和過(guò)氧化物溶液。這是一款單熔位電子儀器。
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Claisse TheOx Advanced熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：Claisse TheOx Advanced

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熔融制樣前處理設備及耗材馬爾文帕納科 Claisse TheOx Advanced確保生產(chǎn)率 Claisse TheOx Advanced 熔融儀器是Claisse TheOx 儀器的新版本。與以前的版本一樣，它具有六個(gè)熔融位置，專(zhuān)為樣品處理量較高的實(shí)驗室設計。
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2830 ZTX射線(xiàn)熒光光譜儀晶圓分析儀馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：2830 ZT

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X射線(xiàn)熒光光譜儀晶圓分析儀馬爾文帕納科半導體薄膜計量解決方案 2830 ZT 波長(cháng)色散 X 射線(xiàn)熒光 (WDXRF) 晶圓分析儀提供了用于測量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圓分析儀專(zhuān)門(mén)針對半導體和數據存儲行業(yè)而設計，該儀器可為多種晶片（厚達 300 mm）測定層結構、厚度、摻雜度和表面均勻性。
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Axios FAST X射線(xiàn)熒光光譜儀馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：

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Axios FAST X射線(xiàn)熒光光譜儀馬爾文帕納科超高速度和超高通量專(zhuān)用于金屬工業(yè)關(guān)鍵過(guò)程分析從 1994 年飛利浦第一代多道同時(shí)式 X 射線(xiàn)熒光光譜儀 PW2600誕生以來(lái)，馬爾文帕納科的多道 XRF 已經(jīng)歷了 4 代產(chǎn)品更迭，而不變的是其優(yōu)異的性能和儀器超高穩定性。
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Epsilon Xflow射線(xiàn)熒光光譜儀馬爾文帕納科

更新時(shí)間：2024-01-17

型號：

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Epsilon Xflow射線(xiàn)熒光光譜儀馬爾文帕納科通過(guò)使用 Epsilon Xflow 進(jìn)行在線(xiàn)液體分析，可以快速準確地控制過(guò)程參數。增強的法規和質(zhì)量規范推動(dòng)對持續工藝流程的需求。 Epsilon Xflow 提供的實(shí)時(shí)洞察能力讓您能夠更有效地管理您的生產(chǎn)工藝并降低運營(yíng)成本。同步分析多種元素實(shí)時(shí)結果 EDXRF 技術(shù) 高度可重復性
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